
Zum Projekt
Status: bewilligt
Durchführungsort: Baesweiler
Durchführungszeitrahmen: 01.06.2024 bis 31.05.2027
Programmlinie: Bundesprogramm
Fördervolumen: 13,08 Mio. Euro
Halbleiter werden mit einem Verfahren namens Epitaxie hergestellt. Dabei werden winzige Atome Schicht für Schicht gleichmäßig auf einem glatten, flachen Kristall angeordnet, der beispielsweise aus Silizium besteht. Bisher gängige Verfahren der Epitaxie benötigen eine Prozesstemperatur von 1000 Grad Celsius und sind somit sehr energieintensiv. Die Element 3-5 GmbH aus Baesweiler erarbeitet und etabliert deshalb eine energie-, ressourcen- und zeitsparende Weiterentwicklung. Dafür nutzt sie unter anderem das Verfahren der Niedertemperaturepitaxie. Mit dieser lässt sich die Prozesstemperatur auf weniger als 300 Grad und damit der gesamte Energieverbrauch deutlich reduzieren.
Das ist nicht nur kosteneffizient, sondern ermöglicht auch eine Kombination von Halbleitern mit Materialien, die bisher nicht verarbeitet werden konnten. Außerdem verzichtet die Element 3-5 GmbH auf den Einsatz toxischer Gase, die bisher oft benutzt werden, um die winzigen Strukturen auf den Chips herzustellen. Stattdessen verwendet das Unternehmen intelligentes Plasma – ein elektrisch aufgeladenes Gas, das sehr präzise und effizient zur Bearbeitung von Materialien eingesetzt werden kann.
Ein weiterer positiver Aspekt des umweltfreundlicheren Verfahrens: Es spart Zeit. Laut Unternehmen wird die Herstellung der Halbleiter um 700 Prozent beschleunigt. Davon profitieren auch die weiterverarbeitenden Unternehmen. Durch die effizientere Herstellung können sie hocheffiziente Bauteile in Bereichen einsetzen, in denen das bisher aus Kostengründen nicht möglich war. So trägt das Projekt dazu bei, ganze Industriezweige ressourcen- und energieeffizienter zu machen.
Beitrag für Bürgerinnen und Bürger: Schaffung von High-Tech Arbeitsplätzen im hohen dreistelligen Bereich.
Nutzen für den Wirtschaftsstandort: Günstigere und schnellere Verfügbarkeit von Halbleitertechnologie, Aufbau von Expertise.
Beitrag zum Klima- und Umweltschutz: Energie- und ressourcenschonende Produktion von Halbleitern.
Entwicklung weiterer Materialsysteme für die Niedertemperaturepitaxie
Der Strukturwandel Rheinisches Revier wird gefördert durch:


